国際OPEN TECHシンポジウム：最先端科学技術を支えるドライプロセスの基礎と応用ー活きた英語と日本語でー

【第1部】: 真空技術について（Leybold GmbH）
-真空の原理と真空システム
-世界の最先端の研究開発に活用される真空技術

※英語でインタラクティブに進めます。
【第2部】: 真空技術が不可欠なデバイスやプロセスの最前線
– IGZOパネル向け製造装置の開発（日新電機株式会社）
– Semiconductor Memory Process-Device Technology utilizing Manufacturing EquipmentSupported by Vacuum Science and Technology（東京エレクトロン株式会社）
– Dry etch challenges for vertical scaling of 3D memory（サンディスク株式会社）

※日本語で解説します。

詳細についてはシンポジウム詳細PDFをご覧下さい。