電気電子工学系 西中浩之 教授、高知工科大学 システム工学群 川原村敏幸 教授、京都大学 藤田静雄 名誉教授らの研究グループが、「令和８年度科学技術分野の文部科学大臣表彰」において、科学技術賞（研究部門）を受賞し、4月15日に文部科学省で表彰式が行われました。

表彰式の様子
左から：川原村教授、西中教授

　本表彰は、同省が、科学技術に関する研究開発、理解増進等において顕著な成果を収めた者について、その功績を讃えることにより、科学技術に携わる者の意欲の向上を図り、もって我が国の科学技術水準の向上に寄与することを目的として行っているものです。

　表彰式翌日には西中教授から吉本昌広 学長、増田新 理事・副学長へ受賞の報告が行われました。また、吉本学長とも研究交流を通じて親交があり、本学の客員教授としてサムコ辻理寄附講座の講師を務めている藤田静雄 名誉教授も同席されました。西中教授と藤田名誉教授は自身の研究業績を紹介するとともに、今後の抱負を述べ、吉本学長からは祝意とともに、さらなる研究活動への期待が寄せられました。

• 

  学長報告での記念撮影
  左から：増田理事・副学長、藤田名誉教授
  西中教授、吉本学長

• 

  学長報告の様子

【受賞者】
京都工芸繊維大学 電気電子工学系 西中浩之 教授
高知工科大学 システム工学群 川原村敏幸 教授
京都大学 藤田静雄 名誉教授

【業績名】
「低環境負荷の次世代成膜技術ミストCVD法の研究」

【受賞業績の概要】
　酸化物半導体などの新機能材料の実用化には、高品質な薄膜形成と低環境負荷プロセスの両立が不可欠である。しかし、高品質成膜法は真空設備や有害原料を必要とし高エネルギー消費を伴う一方、低環境負荷な溶液プロセスでは結晶性制御が難しく高品質薄膜の形成が困難であった。このため、材料開発の高度化を支える成膜技術の革新が強く求められていた。
　本研究では、水溶液を超音波で微細ミスト化し、大気圧下で高品質成膜を可能とするミストCVD法を確立した。ライデンフロスト効果に基づく非接触成長機構を提唱し、液滴を用いた気相成長により原子レベルの配列制御を実現した。
　本研究により、大気圧かつ溶液プロセスでありながら高真空法に匹敵する優れた結晶品質を達成し、単結晶薄膜形成およびデバイス動作実証に成功した。さらに、本手法の量産適用可能性を示し、実用化に向けた技術的基盤を確立した。
　本成果は、本技術の社会実装を通じて製造エネルギーの大幅削減と環境負荷低減を実現するとともに、材料開発の高度化と産業競争力強化を通じて持続可能な産業発展および国民生活の質向上に寄与することが期待される。

【このページに関する問い合わせ先】
　総務企画課広報係
　　TEL：075-724-7016
　　E-mail：koho[at]jim.kit.ac.jp（※[at]を@に変換してください）